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PVD镀膜(离子镀膜)技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工上。

PVD镀膜膜层的特点，镀膜设备公司，采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

      沈阳百乐真空技术有限公司（原沈阳市真空机械三厂），是真空设备行业协会理事单位、中国真空学会理事单位，中国电子元件行业协会电阻电位器分会会员单位，本公司加工设备齐全，检测手段完备，滨州镀膜设备，并在2001年通过了ISO9001：2000质量管理体系认证，真空镀膜设备厂家，具有很强的技术能力和加工制造能力。

在人工生长金刚石晶体的过程中对其注入硼原子，也可以实现掺杂，但该工艺所需的大功率微波又会降低单晶金刚石的品质。

      Zheng (Jack) Ma及其同事通过一系列实验，在较低温度下实现了单晶金刚石掺硼技术，且无任何品质降低。工作人员发现，对硅片进行掺硼处理，真空镀膜设备销售，然后和单晶金刚石键合并加热至800℃，硼原子就会从硅片转移到金刚石。实验还发现，掺硼硅由于晶格结构缺失一个原子而出现空位缺陷，而来自金刚石的碳原子则会补缺这些缺陷，进而为转移过来的硼原子留下空位。