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真空镀膜对面涂层的要求：与镀膜层要有良好的接触性能;

与底涂层要有一定的相溶性;成膜性能与施涂性能优良;具有适当的机械强度;防潮、抗溶剂、耐腐蚀性能好。抗老化性能强。

由于产品的特殊需要，在面涂层上还可进一步施涂超硬涂层或彩色涂层等。

常用涂料:

真空镀常用涂料有紫外光固化涂料、丙烯酰酯涂料、醇酸树脂涂料、环氧树脂涂料、聚氨酯涂料等。

溅镀机设备与技能(磁控溅镀)

溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和操控系统构成。因为在镀膜过程中，真空系统必需要工作稳定，炉体保压要好，如果在镀膜过程中有杂气掺入，颜色就会不理想，严重的还会脱钛。溅射源又分为电源和溅射枪磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其间平面型分为矩型和圆型，靶资料利用率30- 40%，圆柱型靶资料利用率>50% 溅射电源分为：直流、射频、脉冲， 直流：800-1000V(Max)导体用，须可灾弧。

射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须操控参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力(5×10-1—1.0Pa)，若各参数皆安稳，膜厚能够镀膜时刻估量出来。

真空与镀膜结合改变了以往的镀膜工艺，转变了镀膜技术，实现自动化镀膜功能，特别智能化，也便于维护，一个按键就能完成自动开关机生产，减少了人力资源成本。结合真空的特色镀膜设备不必担心产品镀膜过程受杂质影响问题，在完全真空条件下镀制均匀、致密、附着力强的膜层，使用多种技术满足不同产品镀膜要求。在真空镀膜技术还未出现的时候，用的是化学电镀技术，此种技术污染太大，科研学者一直希望研发能代替的镀膜技术。A3:离子镀膜（PVD镀膜）技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。二十世纪七十年代，随着真空镀膜技术的横空出世，彻底颠覆化学电镀技术，此技术不仅解决污染问题，所能镀制的产品范围更广，它的特色之一是可以镀制很多化学电镀不能实现的镀膜。