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请问PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？

PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。     两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；有些产品在镀膜的时候如果暴露在空气中，会与空气中的气体和尘埃发生反应，但使用真空镀膜就能避免这些问题。PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。

铝型材镀钛金工艺，包括选材、抛光、化学除油、清水冲洗、活化、真空镀钛工艺步骤，其特征在于它还包括：

预镀工艺，该工艺是将活化后并经清水冲洗的钛金铝型材置于由盐、盐酸和水组成的液体中进行化学处理，处理温度为常温，处理时间至液体发生激烈化学反应为止;

电镀工艺，该工艺中镀液成份包括硫酸镍、氯化镍、硼酸、十二烷基硫酸钠、糖精、光亮剂，工艺条件：电流3-4A /dm2阴极移动、5-7A/dm2空气搅拌，镀液温度50-60℃，PH 值3.9-4.2，电镀时间15分钟。

真空镀膜机溅镀的原理是什么

溅镀，一般指的是磁控溅镀，归于高速低温溅镀法.

该技能请求真空度在1×10-3Torr摆布，即1.3×10-3Pa的真空状况充入慵懒气体，并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，因为辉光放电发生的电子激起慵懒气体，发生等离子体，等离子体将金属靶材的原子轰出，堆积在塑胶基材上.以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额产额越高溅射速度越快。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电发生，在10-1—10 Pa真空度，在两较间加高压发生放电，正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。在选择的时候需要了解待抽气体的成分，如果需要选择性的抽气，一种泵可能不足以满足要求，必须组合多种不同的泵互相配合工作，如果真空镀膜设备镀膜要求无油则要选用无油泵。